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半导体生产中应用的超纯水设备都由哪些工艺组成?

发布时间:2023-09-19

  半导体是作为一种电子性质介于导体和绝缘体之间的材料,具有重要的电子学和光电学性质,广泛用于电子、光电和信息技术领域。其在制造过程中需要清洗的超纯水,几乎每道工序都需要超纯水作为清洗用水,为了更好地为半导体生产清洗用水供给,超纯水设备也在增加生产力度。

  目前,半导体生产中应用的超纯水设备摒弃了传统工艺,核心是采用的膜法技术,应用反渗透工艺与EDI和混床工艺来生产超纯水,不仅产水量增加,出水电导率可达18.2mΩ, 满足了芯片行业用水需求。

超纯水设备

  该超纯水设备采用的核心工艺组成介绍如下:

  1、反渗透工艺:利用反向渗透原理,有效除去水中溶解盐类、有机物、胶体、大分子物质等,降低水质的离子含量。

  2、EDI模块:无需酸碱再生,运行成本低,EDI系统的自动化程度很高,可以连续工作,出水水质好且稳定,出水电阻率≥15MΩ·CM。

  3、抛光混床工艺:专门用于高纯度的水处理系统中的终端精制器,能够将水中的离子含量降到PPB级别,出水电阻率可达18.2MΩ·CM。

  以上,介绍的工艺就是目前半导体生产应用的超纯水设备核心工艺组成。莱特莱德北京超纯水设备在保证出水达标的同时,还考量了日常使用方便性、耗材更换方便性、扩建前瞻预判等细节,为半导体生产提供了高品质的超纯水。

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  编辑:柒柒   技术:米

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