“RO+EDI+抛光混床”超纯水设备工艺详解

　　超纯水是目前水质纯度最高的水，电阻率可以达到18MΩ*cm以上，一般用于集成电路、半导体原材料清洗、光刻掩模版制备和光电产业等。采用“RO+EDI+抛光混床”三大高端设备联用，制备超纯水，出水水质纯度极高，可以达到18.5MΩ*cm。

　　“RO+EDI+抛光混床”超纯水设备工艺流程

　　在前处理阶段， “RO+EDI+抛光混床”工艺与传统超纯水处理工艺基本相同。原水经过严格的预处理之后，进入RO反渗透系统，出水立刻送至EDI装置中，此时出水已经达到一般工业用超纯水要求，进而再经过抛光混床对出水进行更深层次的处理，保证出水无任何杂质。

　　“RO+EDI+抛光混床”超纯水设备特点

　　一般行业用超纯水只要求电阻率在18MΩ*cm左右，更精密、更高端的行业例如航天、电子、甚至高端实验室，所使用的超纯水要求电阻率必须达到18.5MΩ*cm，才能得到最佳的效果。“RO+EDI+抛光混床”超纯水设备采用全自动微电脑控制，出水可以完全满足尖端科技的苛刻要求，水质检测结果，杂质含量为零。

　　“RO+EDI+抛光混床”超纯水设备的出水效果已经得到业内人士的认可，应用领域也在逐渐扩大。近些年我国对各行业用水的水质要求越来越严格，检测的项目越来越详细，控制也越来越严格，“RO+EDI+抛光混床”超纯水设备的应用前景广阔，也是未来超纯水设备的发展趋势。