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集成电路超纯水设备

作者:北京水处理设备公司来源:超纯水设备发布时间:2017-10-24

   集成电路超纯水设备用于新兴的光电材料生产、加工、清洗,LCD液晶显示屏、PDP等离子显示屏、高品质灯管显像管、微电子工业、FPC/PCB线路板、电路板、大规模、超大规模集成电路需用大量的高纯水、超纯水清洗半成品、成品。集成电路的集成度越高,对水质的要求也越高,这也对超纯水处理工艺及产品的简易性、自动化程度、生产的连续性、可持续性等提出了更加严格的要求。都应该使用多种纯化技术相结合制取高品质的纯水,这样才能大大提高纯水的纯度,符合用水需求。而临床实验用纯水设备采用双级反渗透技术与纯化、杀菌技术相结合,出水水质达到美国ASTM、NCCLS、CAP试剂级纯水标准。

  集成电路超纯水设备工艺设计

  1、预处理系统→反渗透系统→中间水箱→粗混合床→精混合床→纯水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→抛光混床→精密过滤器→用水对象 (≥18MΩ、CM)(传统工艺)。

  2、预处理→反渗透→中间水箱→水泵→EDI装置→纯化水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→抛光混床→0、2或0、5μm精密过滤器→用水对象(≥18MΩ、CM)(最新工艺)。

  3、预处理→一级反渗透→加药机(PH调节)→中间水箱→第二级反渗透(正电荷反渗膜)→纯水箱→纯水泵→EDI装置→紫外线杀菌器→0、2或0、5μm精密过滤器→用水对象(≥17MΩ、CM)(最新工艺)。

  4、预处理→反渗透→中间水箱→水泵→EDI装置→纯水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→0、2或0、5μm精密过滤器→用水对象(≥15MΩ、CM)(最新工艺)。

  5、预处理系统→反渗透系统→中间水箱→纯水泵→粗混合床→精混合床→紫外线杀菌器→精密过滤器→用水对象 (≥15MΩ、CM)(传统工艺)。

集成电路超纯水设备

  集成电路超纯水设备设备特点

  1、采用进口反渗透膜,脱盐率高,使用寿命长,运行成本低廉。

  2、无需酸碱处理,环保无“三废”。

  3、自动控制,自动维护,水质在线检测,随时监测水质变化。

  4、切合当地水质的个性化设计,全方位满足需求。

  5、全自动控制系统,日常操作极为简便,系统自动进行冲洗维护,制取产品水过程不需要任何手工操作。

  6、双流路设计,不但可以制造超纯水,还生产纯水,方便用户实验室的不同级别用水要求。

  7、预留了升级空间。可以根据用户需要轻松实现功能升级。

  集成电路超纯水设备技术参数

  电子级超纯水设备出水水质完全符合美国ASTM纯水水质标准、我国电子工业部电子级水质技术标准(18MΩ、cm、15MΩ、cm、10MΩ、cm、2MΩ、cm、0、5MΩ、cm五级标准)、我国电子工业部高纯水水质试行标准、美国半导体工业用纯水指标、日本集成电路水质标准、国内外大规模集成电路水质标准。

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